2024年3月11日  CVD法是一种常用的化学气相沉积技术，通过将硅源和碳源气体在高温条件下分解反应生成SiC粉末。 而自蔓延合成法则是一种基于化学反应热的合成方法，通过

碳化硅粉末是制造用于加工金属、陶瓷、石材和其他材料的磨料的重要材料。 碳化硅粉末的硬度仅次于金刚石，具有极高的研磨性能。 陶瓷

2020年3月24日  中国电子科技集团公司第二研究所的李斌等采用自蔓延法合成单晶生长用碳化硅粉体，实验中发现高真空条件下合成的碳化硅粉体纯度优于通载气条件下合成的碳

合成可用于单晶生长的高纯SiC粉料的设备。 可提供半定制化服务 高真空 腔体内壁经镜面抛光，减少气体附着； 各表面严密结合，避免产生泄露； 大抽速泵体，实现快速抽空功能； 高密封性阀体，实现长时间的真空保压。

2024年4月25日  喷雾干燥设备：用于制备碳化硅粉末。 喷雾干燥设备通过将碳化硅悬浮在气体中，然后通过喷嘴将悬浮的碳化硅原料喷洒到热气流中，使其迅速干燥并形成粉末状

2020年3月31日  碳化硅粉末是一种超硬材料，产品采用绿色碳化硅砂经研磨分级提纯制成，其粒度均匀、硬度高、脆性大、自锐性强，切削能力较强，化学性质稳定，导热性好，可以用作研磨粉、研磨膏类使用

2020年8月21日  SiC粉体的合成方法多种多样，总体来说，大致可以分为三种方法。 第一种方法是固相法，其中具有代表性的有碳热还原法、自蔓延高温合成法和机械粉碎法;第二种方法是液相法，其中具有代表性的方法主

2017年11月13日  碳化硅粉体的制备方法，既有传统的固相反应法，又有最新的溶胶凝胶（solgel）法、激光法、等离子法，本文从大体上按气、固、液三项对常用的方法进行分

2023年5月4日  碳化硅，是一种无机物，化学式为SiC，是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生产绿色碳化硅时需要加食盐）等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅是一种半导体，在自然界中以极其罕见的矿物莫桑石

2023年11月10日  据QYR最新调研，2023年中国高纯碳化硅粉末市场销售收入达到了 万元，预计2030年可以达到 万元，20242030期间年复合增长率(CAGR)为 %。本研究项目旨在梳理高纯碳化硅粉末领域产品系列，洞悉行业特点、市场存量空间及增量空间，并结合市场

2022年11月25日  碳化硅又称碳硅石。在当代C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中，碳化硅为应用***、经济的一种。可以称为金钢砂或耐火砂。碳化硅是人造的强共价键的非氧化物陶瓷材料，具有高技术、高附加值的特

碳化硅原料合成炉 (100~150kg,电阻式) 首页 产品 晶体生长加工设备 碳化硅（SiC）长晶炉 采用电阻加热和改进的自蔓延高温合成法， 合成可用于单晶生长的高纯SiC粉料的设备。 可提供半定制化服务 高真空 腔体内壁经镜面抛光，减少气体附着； 各表面严密

碳化硅部件（CVDSiC） 以自行研发的CVD法生产，实现了超高纯度，高耐热性，高耐磨性的碳化硅产品 碳化硅产品是硅（Si）和碳（C）1比1结合而成的一种化合物，具有较高的抗磨损性、耐热性和耐腐蚀性。 它们被广泛地应用于半导体材料的制造过程中需要的

2021年7月21日  碳化硅，第三代半导体时代的中国机会 5G通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求，大力发展碳化硅产业，可引领带动原材料与设备两个千亿级产业，助力我国加快向高端材料、高端设备制造业转型发展的步伐。 今年发布的“‘十四五’规划和

2020年8月21日  碳化硅粉体合成采用高纯碳粉和硅粉直接反应，通过高温合成的方法生成。 碳化硅粉体合成设备主要技术难点在于高温高真空密封与控制、真空室水冷、真空及测量系统、电气控制系统、粉体合成坩埚加热与耦合技术。 当前国外主要厂商包括Cree、Aymont等

2015年12月2日  碳化硅在地球上几乎不存在，仅在陨石中有所发现，因此，工业上应用的 碳化硅 粉末都为人工合成。 目前，合成碳化硅粉末的主要方法有： 1、Acheson法： 这是工业上采用最多的合成方法，即用电将石英砂和焦炭的混合物加热至2500℃左右高温反应制得。

碳化硅粉是冶金、建材和化工等行业制造高温炉、窑、坩埚等耐火材料的重要原料。 碳化硅粉的耐高温性能超过 2000°C，适用于生产炉衬砖和炉衬板，可有效延长高温炉的使用寿命并降低生产成本。 磨料 碳化硅粉末是制造用于加工金属、陶瓷、石材和其他

凯华公司专注碳化硅微粉生产近二十年，有固定的原料供应商，以留美博士潘龙修带领的研发团队8人，自主研发的全自动气流粉碎机、整形机生产线十条，砂磨机超细微粉生产线48条，英国马尔文粒度检测仪和国产检测设备十余台，为防止同台检测仪检测不

2023年5月21日  碳化硅的磨抛设备分为粗磨和细磨设备，粗磨方面国产设备基本可以满足加工需求，但是细磨方面主要采购来自于日本不二越、英国logitech、日本disco等公司的设备，采用设备与工艺打包销售的方式，极大

2023年4月26日  1）碳化硅切割设备方面：国内首款高线速碳化硅金刚线切片机 GCSCDW6500可获得和砂浆切割相同的晶片质量，同时大幅提升切割效率， 显著降低生产成本，行业内独家实现批量销售，实现国产替代，

碳化硅粉末的优点和特性 碳化硅粉末具有高导热性、超强硬度和高熔点等主要特性。 这些特性使碳化硅粉末在各种应用中都具有优势，包括在不同行业的研磨、切割和抛光过程中用作磨料。 碳化硅粉末具有显著的热性能和电性能，能够提高陶瓷、热能工程和

2020年8月21日  高纯碳化硅粉 —— 国晶电子生产的高纯碳化硅粉，使用自创的工艺方法合成，纯度大于>99999%, B、Al、P等元素杂质小于1ppm, 产品种类包含α相和β相的各种粒径，适用于碳化硅单晶生长原料，半导体设备和LED设备中的精密碳化硅陶瓷部件。碳化硅单晶炉

5 天之前  本文以研究第三代半导体碳化硅衬底磨抛加工 技术为目的，综述了机械磨抛技术、化学反应磨抛技 术的进展 根据去除机理的不同，划分并总结现有磨 抛技术的特点：传统机械磨抛拥有较高的材料去除 率，但是其加工质量较差，且损伤严重；而化学腐蚀 反应磨

设备采用分段式高纯度石墨电阻加热及热场结构，温场均匀性好； 通过气流路径优化与热场防护技术，具有高腐蚀性气氛下排杂、杂质的定向沉积与热场稳定的特点； 可满足高品质碳化硅原料合成;设备最大装料量达到100KG，大幅提升了原料合成效率。

2023年9月18日  碳化硅是一种超硬材料，莫氏硬度为95，具有硬度高、强度高、抗氧化和耐磨性能好等优异性能。碳化硅主要有四大应用领域：功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料。陶瓷粉末伺服成型机——氧化铝、氧化锆、碳化硅方案

2023年6月22日  碳化硅晶片生产的这两种方法都需要大量的能源、设备和知识才能成功。 碳化硅的用途是什么？SiC 的优点 过去，制造商在高温环境下将碳化硅用于轴承、加热机械部件、汽车制动器甚至磨刀工具等设备。在电子和半导体应用中，SiC 的优势主要包括：

本文将全面探讨碳化硅粉的生产工艺，包括原料选择、工艺流程、设备选型以及产品应用等方面。 原料选择 碳化硅粉的主要原料是石墨和二氧化硅。 石墨作为碳源，具有良好的导电性和高温稳定性，而二氧化硅是硅源，能够提供充足的硅原子。 在选择原料

2017年11月13日  一、碳化硅粉体的制备方法 碳化硅粉体的制备方法，既有传统的固相反应法，又有最新的溶胶凝胶（solgel）法、激光法、等离子法，本文从大体上按气、固、液三项对常用的方法进行分类如下。 1固相法 11碳热还原法 该法由Acheson发明，具体方法：在Acheson

2018年5月22日  碳化硅的制备方法简介： 近年来，在高新技术领域发展起来的超细 碳化硅粉 体制备的方法，主要归为三种：固相法、液相法和气相法。 A固相法：碳热还原法、Si与C直接反应法（包括高温自蔓延合成法

5 天之前  金德新材料位于山东省临沭县，占地面积120多亩，拥有员工200余人，有强大技术研发实力 金德新材料公司以体制创新、管理创新为动力，以技术、品牌和人才为支撑，构建和谐企业 金德新材料拥有先进的生产设备与专业的技术指导 金德新材料拥有先进的生产

2024年6月5日  球形硅微粉具有以下优点： 1）粉体表面流动性好，在集成电路封装中，可以提高粉体的填充量。 这样热膨胀系数就越小，介电能力越好，生产出来的电子器件寿命长，性能更好； 2）球化后形成的塑封应力集中小，成品率高，缩短生产周期，降低产品在运输

2 天之前  Yang Y等 [4] 采用空气中燃烧合成方法，并进行机械活化处理，成功地制备了纳米级碳化硅粉末。研究了机械活化时间对SiC 但HIP烧结的缺点是封装技术壁垒高，设备 投资和运行成本高，导致无法扩大规模使用。4 碳化硅的应用 41 碳化硅在陶瓷中的应用

2020年3月26日  当前碳化硅粉料的合成方法主要包括有机合成法、自蔓延法和Acheson法，这三种方法都存在杂质含量较多、处理过程复杂等问题，因此如何改进现有方法的缺陷成为行业内竞相研究的热点。 早在2008年6月4日，山东天岳公司团队就提供了一项名为“用于半

2024年2月20日  冷压成型法是将碳化硅陶瓷生胚放入模具中，通过施加压力使其成型的方法。 这种方法的优点是设备简单，成本低，可以对形状复杂的零件进行加工。 缺点是成型速度慢，成型精度受到压力和模具的限制；此外，冷压成型过程中可能会产生应力和裂纹，影响

大连正兴磨料有限公司始建于1986年，碳化硼、碳化硅、氮化硼以及相关工业陶瓷制品在内的专业产品。大连正兴(ZX) 独立的研发团队，研发中心配备最先进的欧美进口粒度检测仪器、在线检测系统和相关仪器设备

2023年5月24日  沈阳北真真空科技有限公司 Shenyang North True Vacuum Technology Co, Ltd 沈阳北真真空科技有限公司成立于2011年,是专业从事真空相关设备研发及制造的科技型股份制公司。 主营产品包括碳化硅反应烧结炉、无压烧结炉、重结晶烧结炉、氮化硅结合碳化硅烧结炉、真空

2024年4月30日  北京天科合达半导体股份有限公司成立于2006年9月，总部位于北京市大兴区，是国内率先从事第三代半导体碳化硅单晶衬底及相关产品研发、生产和销售的国家级高新技术企业之一，也是国内碳化硅单晶衬底领域生产规模较大、产品种类较全的碳化硅衬底供应

2024年4月25日  晶圆加工设备：包括光刻机、涂胶显影机等，用于SiC晶圆的微加工。芯片划片机：用于芯片的切割，可以应用于碳化硅。封测设备：用于SiC器件的封装和测试，包括银烧结设备等。这些设备共同构成了SiC生产的完整链条，从单晶生长到最终的器件封装和测

2023年10月17日  根据本项目团队最新调研，预计2029年全球高纯碳化硅粉末产值达到2176百万美元， 20232029年期间年复合增长率CAGR为135%。 全球高纯碳化硅粉末(High Purity SiC Powder)核心厂商包括Nanomakers、Washington Mills和Fiven等，前三大厂商占有全球大约30%的份额。 北美是最大的

2024年1月10日  根据TrendForce 数据,当前Wolfspeed、Coherent等厂商持续加大产能扩充,预计2023年全球折合6 英寸导电型SiC衬底产能将达到2100Kpcs,同比+96% ,预计2026年将增加至5690Kpcs,20232026年CAGR达 39%。 国内市场,天科合达的导电型SiC衬底产能处于全面领先位置。 根据TrendForce数据,随着天

纳米碳化硅粉末的粒径表征1572完全正态分布（下）3195451059由于粉末很细，颗粒之间的范德华力较大，范德华力和重力 作为工程结构陶瓷 的原材料在国民经济和高技术领域具有重要的应用前景，在各种先进设备和新工艺技术的推动下，材料的性能

2022年8月29日  在碳化硅同质外延设备领域，恒普现已量产水平式外延设备，同时即将推出垂直式外延设备。 是什么让恒普值得信赖？ 恒普服务部门具有10多年售后服务经验，是一个具备优秀专业素质和先进服务理念的团队，随时待命，确保恒普交付的每一台设备正常运行。

2023年12月6日  1、全球碳化硅行业市场规模 碳化硅的优势是其高效率、低能耗和耐高温的特性，这些优点使得碳化硅成为新一代功率器件的理想选择。 在电动汽车、可再生能源和工业自动化等应用的推动下，碳化硅的需求量不断增加。 数据显示，2022年全球碳化硅行业市

2022年4月24日  国内外碳化硅陶瓷材料研究与应用进展 李辰冉;谢志鹏;康国兴;安迪;魏红康;赵林 分享 摘要： 碳化硅陶瓷材料具有良好的耐磨性、导热性、抗氧化性及优异的高温力学性能，被广泛应用于能源环保、化工机械、半导体、国防军工等领域。 然而，由