2024年2月4日  涂钡工艺 制作钡涂层，是涂层坩埚制作的核心工序，能保证坩埚使用过程中形成均匀的析晶层，提升坩埚的长晶性能。将氢氧化钡粉体溶于水，坩埚放入涂钡机

2024年2月23日  涂钡工艺 制作钡涂层，是涂层坩埚制作的核心工序，能保证坩埚使用过程中形成均匀的析晶层，提升坩埚的长晶性能。将氢氧化钡粉体溶于水，坩埚放入涂钡机

2024年2月4日  涂钡工艺 制作钡涂层，是涂层坩埚制作的核心工序，能保证坩埚使用过程中形成均匀的析晶层，提升坩埚的长晶性能。将氢氧化钡粉体溶于水，坩埚放入涂钡机

2024年2月6日  制作钡涂层，是涂层坩埚制作的核心工序，能保证坩埚使用过程中形成均匀的析晶层，提升坩埚的长晶性能。将氢氧化钡粉体溶于水，坩埚放入涂钡机内，氢氧化

2011年7月15日  摘要 本发明提供一种石英坩埚涂层的制备方法，包括：a)、配置氢氧化钡溶液，所述氢氧化钡溶液中氢氧化钡与水的重量比为1∶ (46～52)；b)、将石英坩埚加热至200℃以上，将所述氢氧化钡溶液均匀

通常的做法是将石英坩埚壁涂上一层含有结晶水的氢氧化钡（Ba (OH)28H2O）（饱和的氢氧化钡水溶液）。 这层氢氧化钡会与空气中的二氧化碳反应形成碳酸钡。 而当这种石英坩

2010年6月30日  专利名称：一种石英坩埚涂钡工艺及其产品的制作方法 技术领域 ： 本发明涉及石英坩埚制造工艺领域，这种坩埚特别用于单晶硅的生产。

2022年9月27日  [0003] 为了延长石英坩埚使用寿命，现有石英坩埚采用涂钡技术进行钡涂层的制备，现 有涂钡技术主要通过采 用高纯原料 ，并通过配置氢氧化钡溶液 ，利 用冷涂

摘要： 本发明提供一种石英坩埚涂层的制备方法,包括:a)配置氢氧化钡溶液,所述氢氧化钡溶液中氢氧化钡与水的重量比为1: (46～52);b)将石英坩埚加热至200℃以上,将所述氢氧化

2015年9月24日  将石英坩埚壁涂上一层含有结晶水的氢氧化钡（饱和的氢氧化钡水溶液）， 这层氢氧化钡会与空气中的二氧化碳反应形成碳酸钡。 继而形成氧化钡，矽酸钡，最后

2024年3月18日  将氢氧化钡粉末溶于水，坩埚放入涂钡机内，氢氧化钡均匀喷涂于坩埚内表面。 氢氧化钡极易与空气中的CO2反应生BaCO3， 坩埚表面的涂层即为BaCO3。 Ba(OH)2、BaCO3均很稳定，涂钡过程中无Ba离子产生，但Ba(OH)2溶液，BaCO3i沉淀都是对人体有危害的剧毒物质，操作过程需作好防护。

2010年6月30日  专利名称：一种石英坩埚涂钡工艺及其产品的制作方法 技术领域： 本发明涉及石英坩埚制造工艺领域，这种坩埚特别用于单晶硅的生产。 背景技术： 目前，生产单晶硅棒通常在石英坩埚中进行，而由于冶炼单晶硅棒时温度可达1400摄氏度左右，在此温度下，如果石英坩埚表面未经过任何处理，则在

石英坩埚知识4温度过低。 当熔料料温度偏低时，坩埚上部的料与埚壁接触处易发生似熔非熔的状态，当下部料熔完上部已挂边的块料将石英坩埚下拉二发生变形。 5原料质量参差不齐，齐所含杂质远高于原始多晶，酸洗工艺不尽完善，这对坩埚的正常使用

氢氧化钡在石英坩埚涂层领域的应用 2015/09/24 贝孟思化工 高品质石英坩埚生产商，在生产石英坩埚过程中，往往会采用涂钡工艺，来改善坩埚的质量！ 氢氧化钡，含有结晶水的粉状或粒状的晶体，要求纯度达到9999%，是光伏行业单晶坩埚冷涂层的

2010年6月30日  专利名称：一种石英坩埚涂钡工艺及其产品的制作方法 技术领域： 本发明涉及石英坩埚制造工艺领域，这种坩埚特别用于单晶硅的生产。 背景技术： 目前，生产单晶硅棒通常在石英坩埚中进行，而由于冶炼单晶硅棒时温度可达1400摄氏度左右，在此温度下，如果石英坩埚表面未经过任何处理，则在

坩埚涂钡工艺 首页/ 坩埚涂钡工艺 《部分工业行业淘汰落后生产工艺装备和产品指导目录 陶土坩埚玻璃纤维拉丝生产工艺与装备 20 砖瓦24门以下轮窑 （2010年） 21 砖瓦18门以下轮窑以及立窑、无顶轮窑、马蹄窑等土窑 22 普通挤砖机 23 SJ双轴、单轴

2018年11月29日  权利要求 本专利由内蒙古中环光伏材料有限公司申请，公开，本发明提供一种石英坩埚及控制碳酸钡用量的方法，包括气泡复合层、透明层和涂层，涂层包括第一涂层和第二涂层，气泡复合层、透明层、第一涂层与第二涂层从外至内依次设置；计

2010年6月30日  一种石英坩埚涂钡工艺及其产品的权利要求说明书内容是请下载后查看 说明书 一种石英坩埚涂钡工艺及其产品的说明书内容是请下载后查看 （19）中华人民共和国国家知识产权局 （12）发明专利申请 （10）申请公布号 CNA（43）申请公布日

2021年10月22日  工艺流程：项目生产产品为石英圆坩埚，主要工艺步骤为模具加料、坩埚熔制炉熔制、成品出炉、尺寸检验、酸洗、水洗、超声清洗、涂钡、包装入库。工艺流程图熔制阶段：先抽真空，然后通过3根石墨电极起电弧，熔制阶段温度约1700摄氏度。

有没有别的涂层可以代替百度知道 为什么直拉单晶硅要用钡涂层？ 有没有别的涂层可以代替 氮化硅是不行的了，有没有别的可以代替 分享 举报 可选中1个或多个下面的关键词，搜索相关资料。 也可直接点“搜索资料”搜索整个问题。 单晶硅

2022年5月18日  9、涂钡：将氢氧化钡粉末溶于水，放入涂钡机内，均匀喷涂于内表面。操作过程需作好防护。 10、包装入库：使用纸箱包装，叉车将石英坩埚送入仓库。 以上为大家介绍的就是关于石英坩埚的生产工艺，大家都了解了吗？

2019年1月28日  本发明属于直拉单晶的技术领域，尤其是涉及一种石英坩埚及控制碳酸钡用量的方法。背景技术现有的拉晶用石英坩埚由两个部分构成，外侧是一层具有高气泡密度的区域为气泡复合层和内侧是35mm的透明层，从而改善单晶成晶率及品质。但是，由于硅在熔融状态下具有高度的化学活泼性，它会与

2011年9月2日  单晶拉制过程中石英坩埚为什么选择冷涂钡层？哎呀 下面2位大大解释的不对啦！不过也正常很多懂熔融工艺的朋友也不是很了解的。我们使用的冷涂钡是一种化合物（具体是什么根的钡化合物我也不太清楚，只了解罢了）。大

2022年9月27日  2 一种石英坩埚高致密结合涂层材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1 ：第一溶液配制 ，在不小于38℃温度的条件下 ，将氮化硅粉末和碳化硅粉末缓慢加入 到硅溶胶中，然后再加入分散剂，然后加入30‑60份高纯水搅拌均匀，制得第一溶

2024年2月4日  涂钡工艺 制作钡涂层，是涂层坩埚制作的核心工序，能保证坩埚使用过程中形成均匀的析晶层，提升坩埚的长晶性能。将氢氧化钡粉体溶于水，坩埚放入涂钡机内，氢氧化钡均匀喷涂于坩埚内表面。氢氧化钡极易与空气中的 CO 2 反应生BaCO 3，坩埚表面的涂层

坩埚喷涂及装料工艺 将坩埚轻放在干净的石墨板正中（即坩埚四个外表面到石墨板边垂直等距离± 02cm） ，校正好石墨板与小车各面位置（即推车两侧边到石墨板等距离±02cm， f正对推车扶手一面的边缘距石墨板为 6~7cm） 。 把坩埚推入装料室中摆放好

石英坩埚知识整理总结解释：析晶通常发生在石英坩埚的表层，按照中国石英玻璃行业标准规定，半导体工业用石英玻璃在1400℃±5℃下保温6小时，其析晶层的平均厚度应为﹤100µm，在100µm之内的析晶是属于正常的。 严重的析晶对拉单晶的影响很大，石英坩埚

2024年2月4日  涂钡工艺 制作钡涂层，是涂层坩埚制作的核心工序，能保证坩埚使用过程中形成均匀的析晶层，提升坩埚的长晶性能。将氢氧化钡粉体溶于水，坩埚放入涂钡机内，氢氧化钡均匀喷涂于坩埚内表面。氢氧化钡极易与空气中的 CO 2 反应生BaCO 3，坩埚表面的涂层

2024年1月26日  电弧法生产的石英坩埚主要用于单晶硅的拉制、彩色荧光粉的烧结容器、颜色玻璃融制用耐火坩埚。石英坩埚的工艺流程包括原料准备、配料与混合、电弧熔炼、冷却凝固、成品出炉、喷砂去除、外观及微气泡检测、切割、尺寸检验、洗净、干燥、涂钡制作钡涂层、终检等步骤。

2013年7月15日  百度知道为什么直拉单晶硅要用钡涂层？有没有别的涂层可以代替 2013年7月15日 钡涂层是在坩埚内壁上涂一层带结晶水的氢氧化钡，具体的应该是（BaOH2 8H2O），结晶水的数目记不太清楚了。 然后氢氧化钡与空气反应生成碳酸钡，碳酸钡在 答复数: 1百家号石英坩埚对拉晶的影响和常见石英坩埚问题

坩埚涂钡工艺坩埚涂钡工艺坩埚涂钡工艺 T13:10:38+00:00 为什么直拉单晶硅要用钡涂层？有没有别的涂层可以代替 2013年7月15日 钡涂层是在坩埚内壁上涂一层带结晶水的氢氧化钡，具体的应该是（BaOH2 8H2O），结晶水的数目记不太清楚了。

2013年2月9日  工艺流程项目生产产品为石英圆坩埚主要工艺步骤为模具加料、坩埚熔制炉熔制、成品出炉、尺寸检验、酸洗、水洗、超声清洗、涂钡、包装入库。 工艺流程图 ① 加料 在石墨模具中加入所需重量石英砂 将模具导入熔制炉内 ② 熔制阶段 先抽真空 然后通过 3 根石墨电极起电弧 熔制阶段温度约 1700

2024年2月4日  涂钡工艺 制作钡涂层，是涂层坩埚制作的核心工序，能保证坩埚使用过程中形成均匀的析晶层，提升坩埚的长晶性能。将氢氧化钡粉体溶于水，坩埚放入涂钡机内，氢氧化钡均匀喷涂于坩埚内表面。氢氧化钡极易与空气中的 CO 2 反应生BaCO 3，坩埚表面的涂层

石英坩埚钡涂源自文库作用 石英坩埚的钡涂层主要起到以下几个作用： 1防止石英坩埚的化学反应：在高温下，石英坩埚中的石英可能会被氧化并逐渐分解，而钡在晶格中的存在可以有效地稳定石英，并减缓其分解，起到防止石英坩埚的化学反应的作用。 2抗

坩埚涂钡工艺坩埚涂钡工艺坩埚涂钡工艺 T16:08:27+00:00 一种石英坩埚涂钡工艺及其产品的制作方法 X技术 专利名称：一种石英坩埚涂钡工艺及其产品的制作方法 技术领域： 本发明涉及石英坩埚制造工艺领域，这种坩埚特别用于单晶硅的生产。

CN 摘要： 本发明提供一种石英坩埚涂层的制备方法,包括:a)配置氢氧化钡溶液,所述氢氧化钡溶液中氢氧化钡与水的重量比为1: (46～52);b)将石英坩埚加热至200℃以上,将所述氢氧化钡溶液均匀喷涂于所述石英坩埚的内壁和上口,喷涂后所述石英坩埚内壁和上口

2014年3月26日  石英坩埚的转移或装卸可能会磨损氢氧化钡涂层。结晶是否按希望的方式发生通常是不可预知的，只有使用石英坩埚时才能得知。此外钡在石英坩埚中迁移率很小，造成在已知的石英坩埚中结晶的表面层厚度很薄，通常为50 μ m左右。这样的薄层在使用时很容易

注：涂钡工艺的原理： 这是因为钡在硅中的平衡偏析系数非常小，使得他在硅晶棒中的浓度小2于5x10 (9) /cm3,因而不会影响到晶棒的品质通常的做法是将石英坩埚壁涂上一层含有结晶水的氢氧 化钡(3a(OH)28H2O(饱和的氢氧化钡水溶液)。

目前，全球的硅单晶生产均采用电弧坩埚。 工艺流程：项目生产产品为石英圆坩埚，主要工艺步骤为模具加料、坩埚熔制炉熔制、成品出炉、尺寸检验、酸洗、水洗、超声清洗、涂钡、包装入库。 四、工艺参数的确定 1、起弧电压和电流

2012年12月15日  石英坩埚知识整理总结一：石英坩埚的历史和现状1早期石英坩埚早期的石英坩埚是全部透明的，最早期的石英坩埚是全部的透明的结构，这种透明的结构却容易引起导致不均匀的热传输条件，增加晶棒生长的困难度。所以这种坩埚基本被淘汰使用。2现代的石英坩埚q6V1现代拉单晶的石英坩埚一般是

气泡空乏层的目的在于坩埚与溶液接触区的气泡密度，从而改善单晶生长的成功率及晶棒品质。 为提高坩埚的使用寿命，出现了一种涂钡工艺，将石英坩埚的内壁上涂一层含有结晶水的氢氧化钡饱和水溶液。这层溶液将与空气中的二氧化碳反应形成碳酸钡。

2010年12月6日  附件：部分工业行业淘汰落后生产工艺装备和产品指导目录（2010年本） 二 一 年十月十三日 附件： 部分工业行业淘汰落后生产工艺装备和产品指导目录 (2010年本) 一、 钢铁 1 30平方米以下烧结机 2 90平方米以下烧结机（2013年） 3 8平方米以下球团

2011年9月20日  一种石英坩埚钡涂层的喷涂设备,涉及一种石英坩埚涂钡设备,在箱体(18)内的轴(9)的下部套接齿盘(20),齿盘上部设有推力滚子轴承(19),轴的上部与喷涂承载转盘(8)的下部面固定连接,在喷涂承载转盘的上部设有针刺玄武岩布垫(7);所述齿盘与一侧的竖齿盘(14)齿

2022年10月18日  石英坩埚原料对拉制单晶硅时其稳定性有一定影响。 目前坩埚生产涂层技术已被大多数厂家使用，就是在普通石英砂溶制的坩埚表面涂上一层二氧化钡溶液使其形成致密层，其致密层能阻止单晶硅高温拉制过程中硅与石英坩埚反应提高成晶率。 基本生产流程

2019年2月26日  其涂钡工艺的为：将石英坩埚壁涂上一层氢氧化钡（Ba(OH)28H2O）（饱和的氢氧化钡水溶液）。 这层氢氧化钡会与空气中的二氧化碳反应形成碳酸钡。 而当这种石英坩埚在单晶炉上被加热时，碳酸钡会分解形成氧化钡，随着氧化钡与石英坩埚反应形成硅酸钡（BaSiO3）。

2017年9月25日  项目生产产品为石英圆坩埚，主要工艺步骤为模具加料、坩埚熔制炉熔制、成品出炉、尺寸检验、酸洗、水洗、超声清洗、涂钡、包装入库。 工艺流程图 加料：在石墨模具中加入所需重量石英砂，将模具导入熔制炉内；熔制阶段：先抽真空，然后通过3根石墨电极起电弧，熔制阶段温度约1700摄氏度。

2015年9月24日  将石英坩埚壁涂上一层含有结晶水的氢氧化钡(Ba(OH)2 8H2O)（饱和的氢氧化钡水溶液）， 这层氢氧化钡会与空气中的二氧化碳反应形成碳酸钡。继而形成氧化钡，矽酸钡，最后形成白矽石结晶，这大幅度的改善石英坩埚的使用寿命及长晶良率。

2014年10月29日  多晶铸锭坩埚喷涂及装料工艺 [1] [指南]doc 坩埚喷涂与装料一、坩埚喷涂1、喷涂目的坩埚喷涂用纯水把粉末喷料氮化硅（氮化硅分子式为Si3N4，是一种重要的结构陶瓷材料。 它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损；除氢氟酸外，它不与其他无

2、坩埚喷涂工艺简介 坩埚喷涂是利用不同于其它喷涂技术和方法，坩埚喷涂是涂装坩埚通过加热 使其液态混合物（氮化硅）迅速附着在坩埚表面。涂装坩埚的方法可分为加热喷 涂与滚涂两种方法涂覆工艺， 滚涂涂装其技术工艺简单， 涂装涂层不均， 时间长

石英坩埚知识整理总结 三：石英坩埚在拉单晶中出现的现象及其分析 1．石英坩埚使用后壁上出现棕色小圈 现象：在锅壁上出现棕色小圈。 解释：石英坩埚本身是非晶质，石英坩埚本身是非晶质的介态能，在适当的条件下他会发生相变化而形成稳定的方石英